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【導讀】低溫恒溫循環器低溫恒溫反應浴常應用于對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。

低溫恒溫循環器特點：

箱體采用優質的冷軋板并訂制專用杜邦粉沫噴塑處理。內膽采用SUS304不銹鋼板，激光切割加工技術，表面平整，美觀大方。

主要零部件國外進口（循環水泵，漏電保護器，控制系統，傳感器…）性能優越，質量可靠。

冷凍機和加熱器組合使用溫度范圍廣泛，控溫更精確，可能進行高精度的溫度調節。

外部循環和冷卻能力強，且泵功率電子可調，可保證最佳循環換熱效果。

控制面板下方的吸氣口處，配備了空氣過濾網，有效防止灰法吸入，維護設備內部清潔。

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